专利名称：一种电容去离子装置专利类型：实用新型专利发明人：战树岩,刘佩春,高新源申请号：CN201922453626.9申请日：20191231公开号：CN212076520U公开日：20201204
摘要：本实用新型公开一种电容去离子装置，包括壳体、集电体、正电极、负电极和隔膜，所述正电极、负电极均采用高分子导电材料制成，所述正电极、负电极在所述壳体内交替平行排列，所述正电极、负电极间设置有隔膜，所述正电极、负电极分别与集电体连接，所述壳体上设有进水口和出水口。本实用新型的电极选用高分子导电材料制成，耐腐蚀，耐酸碱，不易被氧化或冲涮损失，延长了维护周期；电极、集电体和隔膜与壳体间安装方便，为相关人员的维护提供了方便；电极具有较大的比表面积及丰富的孔隙结构，有利于增加脱盐效率且使用的高分子导电材料电极材料表面官能团少，减少化学吸附产生，从而降低了循环使用除盐效率的衰减，提高了去除率。
申请人：天津万峰环保科技有限公司
地址：300000 天津市滨海新区自贸试验区(空港经济区)航海路206号
国籍：CN
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